De regering-Biden overweegt momenteel aanvullende beperkingen op te leggen aan China op het gebied van AI-technologie, specifiek gericht op het gebruik van GAA-halfgeleidertechnologie. De spanningen tussen de VS en China in de technologie-industrie zijn geëscaleerd, waarbij de Amerikaanse regering ernaar streeft de Chinese vooruitgang op het gebied van de ontwikkeling van halfgeleiders te beperken. Bloomberg meldt dat de VS van plan zijn de Chinese toegang tot Gate-All-Around (GAA) halfgeleidertechnologie te beperken om de Chinese vooruitgang te belemmeren en te voorkomen dat deze aan kracht wint in de AI-sector.

GAA-technologie wordt als cruciaal beschouwd voor het realiseren van hoogwaardige halfgeleiderprocessen, omdat hierbij een poortelektrode langs het hele kanaal van transistors wordt gebruikt om de prestaties en energie-efficiëntie te verbeteren. Hoewel GAA-technologie buiten het 3 nm GAA-proces van Samsung nog niet op grote schaal wordt toegepast, biedt het aanzienlijke voordelen, zoals verbeterde warmteafvoer en betere elektrostatische controle. De methodologie is momenteel beperkt in haar toepassing.

Het doel van de Amerikaanse regering is om de vooruitgang van China op het gebied van halfgeleidertechnologie te belemmeren, aangezien het land aanzienlijke vooruitgang heeft geboekt in deze sector. Huawei heeft naar verluidt gewerkt aan een 5 nm-proces en het verhogen van de opbrengstpercentages voor hun bestaande 7 nm-proces, terwijl de Chinese halfgeleidergieterij SMIC al een 5 nm-proces exploiteert zonder het gebruik van EUV-lithografie. Deze ontwikkelingen hebben in de VS tot bezorgdheid geleid over de snelle vooruitgang van China.

Het valt nog te bezien hoe de VS verder zullen gaan met hun maatregelen om de Chinese halfgeleidergroei te beïnvloeden, aangezien eerdere sancties een beperkte impact hebben bewezen. De escalerende spanningen in de technologie-industrie tussen de VS en China zullen waarschijnlijk aanhouden, aangezien beide landen strijden om dominantie in de halfgeleidersector.