Digitho Technologies Inc., een pionier op het gebied van de vooruitgang op het gebied van de fotolithografie, heeft zijn eerste patent in de Verenigde Staten ontvangen voor zijn baanbrekende kerntechnologie: een programmeerbaar fotolithografiemasker en -systeem. Deze gepatenteerde technologie introduceert een revolutionair programmeerbaar fotomasker, dat het fotolithografieproces transformeert dat cruciaal is bij de microfabricage van halfgeleiders. De innovatie maakt directe schrijfmogelijkheden mogelijk op conventionele fotomaskersystemen, met herconfigureerbare pixels die bij elke blootstelling aan licht unieke patronen kunnen afdrukken.

De toekenning van dit patent is een belangrijke prestatie voor Digitho Technologies Inc., die haar toewijding aan innovatie benadrukt en haar positie als leider in de fotolithografie-industrie verstevigt. Digitho Technologies Inc., gevestigd in Sherbrooke, Canada, legt zich toe op het verbeteren van microfabricage- en halfgeleiderfabricageprocessen door middel van innovatieve oplossingen.

Voor meer informatie kunt u contact opnemen met Cedric Canu, Chief Commercial Officer, via [email protected] of 14164504528. Digitho Technologies Inc. loopt voorop op het gebied van de vooruitgang op het gebied van de fotolithografie en stimuleert de toekomst van de technologie. Voor meer informatie kunt u het oorspronkelijke persbericht op newswire.com raadplegen.